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磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、沉積薄膜均勻性好、成分接近靶材成分等優點。傳統濺射技術的工作原理是：在高真空條件下，入射離子（ar+）在電場作用下轟擊靶材，使靶材表面的中性原子或分子獲得足夠的動能，與靶材表面分離，沉積在基板表面形成薄膜。但是，電子會受到電場和磁場的影響而漂移，導致濺射效率低。短的電子轟擊路徑也會導致襯底溫度升高。為了提高濺射效率，在靶材下方安裝了強磁體，中心和圓周分別有N極和S極。由于洛倫茲力的作用，電子被束縛在靶...

多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電鏡和電子探針的樣品制備設備，可用于真空碳蒸鍍、真空鍍膜和離子濺射，在高純氬氣保護下也可用于各種離子處理。本設備處理后的樣品既可用于樣品的外觀觀察，也可用于成分分析，尤其是成分的定量分析。本儀器配備機械泵和分子泵，分子泵系統特別適用于對真空度要求高、真空環境好的用戶。多功能試樣表面處理機將硅片放入真空反應系統，通入少量氧氣，加1500V高壓，高頻信號發生器產生高頻信號，從而形成強電磁場石英管中，氧氣被電離，形成由氧離子、活性氧原子、氧分子和電...

蠕動泵是一種可控制流速的液體輸送裝置，具有輸送精度高、較強的耐腐蝕性、剪切作用小、操作簡單及易于維護等優勢，所以廣泛應用在科研、制藥、化工、環保、飲料、食品、印刷等各領域。其在科研實驗室常被用于細胞組織輸送、標本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送等。實驗室領域蠕動泵在小體積流體分配和計量方面具有很好的重復性精度。無需安裝任何閥，消除了流體常見的阻塞及虹吸現象。實驗室研發過程中常見的應用場合有：細胞組織輸送、標本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送。食品、...

管式爐爐管內的壓力應保持在1個標準大氣壓，不得低于1個標準大氣壓或大于0.02MPa。這種方法可以保證爐管內的壓力在這個范圍內，氣瓶必須配備減壓閥。建議選擇0-0.6mpa范圍的減壓閥。不要選擇大范圍的減壓閥（如0-2.5mpa），這樣不準確，容易爆裂石英管。減壓閥開到0-0.05mpa為宜，不能超過0.05Mpa。當管式爐爐溫超過1000℃時，不允許在爐管內進行真空燒結。最好保持微正壓狀態，保護燒結氣氛。建議長時間使用的石英管溫度不超過11??00℃。如果您擔心氣壓太高或燃...

箱式爐采用雙層外殼結構和PID程序控溫系統，移相觸發，可控硅控制。該爐采用氧化鋁多晶纖維材料制成，雙層爐殼之間裝有風冷系統，可快速升降溫。外殼整體密封，蓋板用硅膠泥密封，爐門用硅膠墊片密封，氣體通過流量計后進出后室。多爐進出口，可預抽真空，可通氬、氮氣、氧氣、惰性氣體等。爐具有溫度場平衡、表面溫度低、升降溫速度快、節能等優點，是大專院校、科研院所、工礦企業進行氣氛保護燒結和氣氛還原的理想產品。1、可接觸氣體：所有惰性氣體、氮氣、氬氣、氧氣、二氧化碳、水蒸氣等。2、外觀設計：采...

管式爐是在沉底材料上生長優質石墨烯、碳納米管和碳化硅的專用設備，廣泛應用于半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、涂層等新材料和新工藝。它在使用前需要做好哪些準備工作呢？1、設計溫度升降曲線。升溫速率不得高于10℃/min，降溫速率應低于15℃/min。2、清潔環境。3、每周開始使用時，檢查機械泵油路是否在標線以上，取下兩端蓋板，用吸塵器清潔剛玉爐管。4、將樣品舟推入剛性管式爐中間（恒溫長度10cm）。5、塞住兩個絕緣爐塞，使第二個爐塞的末端與爐體側面齊平。6、安裝燃氣爐法蘭，確認...

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖蒸發鍍...